アカサカ テツヤ
赤坂 哲也 所属 理工学部 総合理工学科 職種 教授 |
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言語種別 | 日本語 |
発行・発表の年月 | 2010/02 |
形態種別 | 学術雑誌 |
招待論文 | 招待あり |
標題 | 六方晶窒化ホウ素のエピタキシャル成長とその紫外発光特性 |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | 表面科学 |
掲載区分 | 国内 |
出版社・発行元 | 日本表面学会 |
巻・号・頁 | 31(2),99-105頁 |
総ページ数 | 6 |
担当区分 | 最終著者 |
著者・共著者 | 小林康之,Chiun-Lung Tsai,赤坂哲也 |
概要 | 窒化ホウ素(BN)には、六方晶BN、立方晶BN、おびウルツ鉱BNの結晶構造があり、h-BNは遠紫外領域の半導体材料として可能性を有する。しかし、単結晶基板が実現されておらず、ヘテロ成長における結晶構造制御は困難であった。我々は、MOVPEおよびMBEを用いて、格子整合する基板、そして成長条件を最適化することにより、h-BNエピタキシャル薄膜が再現性良く結晶成長できることを可能にした。 |