アカサカ　テツヤ   赤坂　哲也    所属   理工学部 総合理工学科    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	1997/03
形態種別	学術雑誌
査読	査読あり
標題	Growth of polycrystalline silicon thin films on glass
執筆形態	共著
掲載誌名	Thin Solid Films
掲載区分	国外
出版社・発行元	Elsevier
巻・号・頁	296(1-2),pp.2-6
総ページ数	5
担当区分	責任著者
著者・共著者	◎T. Akasaka, D. He, Y. Miyamoto, N. Kitazawa, and I. Shimizu
概要	フッ素系シリコン成長前駆体SiFnHm (m+n≦3)を用いたプラズマ励起化学的気相成長法において、シリコンの種結晶を形成する工程に引き続き、その種結晶の結晶成長を促進する工程を行うという2段階成長によって、ガラス基板上に高品質な多結晶シリコン薄膜を形成した。シリコン薄膜成長過程を分光エリプソメトリによりその場観察し、成長機構を検討した。多結晶シリコン薄膜でpin型太陽電池を作製し、特性評価も行った。