アカサカ　テツヤ   赤坂　哲也    所属   理工学部 総合理工学科    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	1996/05
形態種別	学術雑誌
査読	査読あり
標題	Fabrication of high-quality poly-Si thin films combined with in situ real-time spectroscopic ellipsometry
執筆形態	共著
掲載誌名	Journal of Non-Crystalline Solids
掲載区分	国外
出版社・発行元	Elsevier
巻・号・頁	198-200,pp.883-886
総ページ数	4
担当区分	筆頭著者
著者・共著者	◎T. Akasaka and I. Shimizu
概要	フッ素系シリコン成長前駆体SiFnHm (m+n≦3)を用いたプラズマ励起化学的気相成長法により、360℃という低温でガラス基板上に多結晶シリコン薄膜を成長した。分光エリプソメトリによる薄膜成長過程のその場観察を行うことで、成長表面近傍のサブサーフェスにおいて原子状水素の助けを借りてアモルファスから結晶相への相変化が起こることを明らかにした。得られた多結晶シリコン薄膜は良好な光伝導性を示した。