アカサカ　テツヤ   赤坂　哲也    所属   理工学部 総合理工学科    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	1996/09
形態種別	学術雑誌
査読	査読あり
標題	Fabrication of polycrystalline silicon on glass from fluorinated precursors with the aid of atomic hydrogen
執筆形態	共著
掲載誌名	Material Research Society symposium proceedings
掲載区分	国外
出版社・発行元	Materials Research Society
巻・号・頁	403,pp.391-396
総ページ数	6
担当区分	筆頭著者
著者・共著者	◎T. Akasaka, D. He, and I. Shimizu
概要	フッ素系シリコン成長前駆体SiFnHm (m+n≦3)を用いたプラズマ励起化学的気相成長法において、シリコン種結晶を形成する工程に引き続き、その種結晶の結晶成長を促進する工程を行う2段階成長によって、ガラス基板上に高品質な多結晶シリコン薄膜を形成した。シリコン薄膜成長過程を分光エリプソメトリによりその場観察し、成長機構を検討した。多結晶シリコン薄膜でショットキーバリアダイオード型太陽電池を作製し、特性評価も行った。